BluGlass kooperiert mit AIXTRON
Bewertung der RPCVD-Technologie erfolgt mit AIX 2800G4-HT-System
(PresseBox) - AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt bekannt, dass es mit dem australischen Technologie-Innovator BluGlass Limited (ASX: BLG) bei der Evaluation von dessen einzigartiger Remote Plasma Deposition (RPCVD)-Technologie zusammenarbeitet.
Für die Skalierung von RPCVD auf die Massenproduktion hat BluGlass sich für die AIX 2800G4-HT-Anlage entschieden. Aufgrund seiner urheberrechtlich geschützten doppelachsigen Waferrotation während der Deposition liefert der Planetary Reactor® von AIXTRON gleichmäßigste, im Markt führende Halbleiterschichten. Die RPCVD-Technologie ermöglicht die Niedertemperaturabscheidung von III-V-Nitriden, was die Leistung von Bauteilen potenziell verbessern könnte. Die erste Integration von RPCVD auf die AIX 2800G4-HT erfolgt im Silverwater-Werk von BluGlass in Sydney, Australien.
Giles Bourne, Geschäftsführer von BluGlass, sagt: ?Wir freuen uns sehr, dass AIXTRON uns bei diesem Großprojekt zur Skalierung unserer Technologie unterstützt. Dies ist ein wichtiger Schritt, um die wirtschaftliche Tragfähigkeit von RPCVD in der Großserienfertigung zu demonstrieren.?
Dr. Ken Teo, Chief Innovation Officer von AIXTRON, ergänzt: ?Bei AIXTRON sind wir ständig bestrebt, neue Technologien auf unsere Plattformen zu bringen, um unseren Kunden erweiterte Funktionalitäten zu bieten. Wir wollen das Potenzial der RPCVD-Technologie für die Niedertemperaturabscheidung von Nitrid-Schichten untersuchen, die neue Möglichkeiten für optoelektronische Bauelemente eröffnen können. Wir freuen uns bei der Integration von RPCVD und der Bewertung der Technologie auf die Zusammenarbeit mit BluGlass.?
Über BluGlass
BluGlass Limited (ASX: BLG) ist ein weltweit führender Anbieter, der eine bahnbrechende Technologie vermarktet, die Remote Plasma Chemical Vapour Deposition (RPCVD) zur Herstellung von Hochleistungs-LEDs und anderen Geräten einsetzt. BluGlass hat ein neues Verfahren entwickelt, bei dem RPCVD verwendet wird, um zukunftsweisende Materialien wie Galliumnitrid (GaN) und Indiumgalliumnitrid (InGaN) herzustellen. Diese Materialien sind entscheidend für die Herstellung hocheffizienter Bauelemente für Leistungselektronik und sehr helle Leuchtdioden (LEDs), die in der Fahrzeugbeleuchtung der nächsten Generation, in Virtual Reality-Systemen sowie in der Gerätehintergrundbeleuchtung eingesetzt werden.
Die RPCVD-Technologie bietet aufgrund ihrer niedrigen Temperatur und Flexibilität viele potenzielle Vorteile gegenüber bestehenden Technologien, darunter höhere Effizienz, niedrigere Kosten, Substratflexibilität (einschließlich GaN-auf-Silizium) und Skalierbarkeit.
BluGlass wurde 2005 von der Macquarie University ausgegliedert und 2006 an die Börse gebracht.
Weitere Informationen über BluGlass sind im Internet unter www.bluglass.com.au verfügbar.
Zukunftsgerichtete Aussagen
Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind.. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.
Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.
Die AIXTRON SE ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und Europa. Die Produkte der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und opto-elektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise LED- und Displaytechnologie, Datenübertragung, SiC- und GaN Energiemanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signal- und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.
Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, APEVA®, Atomic Level SolutionS®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap?, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, TriJet®
Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.
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Die AIXTRON SE ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983 gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowie Niederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und Europa. Die Produkte der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und opto-elektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs- oder organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einer Vielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazu gehören beispielsweise LED- und Displaytechnologie, Datenübertragung, SiC- und GaN Energiemanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signal- und Lichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, APEVA®, Atomic Level SolutionS®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap?, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, TriJet®Weitere Informationenüber AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.
Datum: 03.01.2019 - 10:11 Uhr
Sprache: Deutsch
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